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芯片廠(chǎng)酸性廢氣怎么處理
來(lái)源: | 發(fā)布日期:2022-06-07 | 瀏覽次數: |

1.芯片廠(chǎng)酸性廢氣概述

隨著(zhù)科技進(jìn)度,我國芯片制造行業(yè)飛速發(fā)展,行業(yè)技術(shù)日新月異,產(chǎn)品規模持續走高。芯片在制造工藝中使用各種酸液清洗、刻蝕芯片等過(guò)程中產(chǎn)生HF、HCl、硫酸霧等酸性氣體。對于芯片廠(chǎng)企業(yè)在生產(chǎn)工藝過(guò)程中產(chǎn)生的腐蝕性氣體(如酸、堿性廢氣)的治理,目前大多企業(yè)采用液體吸收法治理,采用液體吸收法治理該廢氣,關(guān)鍵在于廢氣凈化設備的選擇。酸性廢氣治理通常采用噴淋塔,通過(guò)酸堿中和反應來(lái)凈化酸性氣體。

芯片酸性廢氣怎么處理

2.噴淋塔工作原理

噴淋塔凈化原理是將氣體中的污染物質(zhì)分離出來(lái),轉化為無(wú)害物質(zhì),以達到凈化氣體的目的。它屬于微分接觸逆流式,塔體內的填料是氣液兩相接觸的基本構件,塔體外部的氣體進(jìn)入塔體后,氣體進(jìn)入填料層,填料層上有來(lái)自于頂部噴淋液體及前面的噴淋液體,并在填料上形成一層液膜,氣體流經(jīng)填料空隙時(shí),與填料液膜接觸并進(jìn)行吸收或綜合反應,填料層能提供足夠大的表面積,對氣體流動(dòng)又不致于造成過(guò)大的阻力,經(jīng)吸收或綜合后的氣體經(jīng)除霧器收集后,經(jīng)出風(fēng)口排出塔外。

3.芯片廠(chǎng)廢氣處理工藝說(shuō)明

生產(chǎn)車(chē)間酸洗池酸霧廢氣經(jīng)風(fēng)罩收集,經(jīng)管道再進(jìn)入酸性廢氣凈化設備,酸霧凈化塔體放置二層填料層并配置二級水浴裝置,并在循環(huán)水池內加氫氧化鈉(簡(jiǎn)稱(chēng)堿),以中和廢氣中的酸霧,酸霧處理塔的上端噴頭噴出吸收液均勻分布在填料上,廢氣與吸收液在填料表面上充分接觸,由于填料的機械強度大、耐腐蝕、空隙率高、表面大的特點(diǎn),廢氣與吸收液在填料表面有較多的接觸面積和反應時(shí)間。凈化后的氣體會(huì )飽含水份經(jīng)過(guò)塔頂的除霧裝置去除水份后直接排放大氣中。

4.噴淋塔應用范圍

酸性廢氣凈化設備廣泛用于電子、化工、電鍍、五金、制藥、印染、半導體制造等行業(yè)中產(chǎn)生的有害廢氣,如:鹽酸(HCI)、氟化氫氣體(HF)、氨氣(NH3)、硫酸霧(H2SO4)、鉻酸霧(CrO3)、氫氰酸氣體(HCN)、堿蒸汽(NaOH)、硫化氫氣體(H2S)、福爾馬林(HCHO)等水溶性氣體。


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